1. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده: / Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg
کتابخانه: کتابخانه مرکزی، مرکز اسناد و تامین منابع علمی دانشگاه صنعتی سهند (آذربایجان شرقی)
موضوع: Plasma dynamics,Thin films, Surfaces,Plasma etching,Plasma chemistry
رده :
QC718
.
5
.
D9L54
1994
2. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده: / Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg
کتابخانه: کتابخانه مرکزی و مرکز اطلاع رسانی دانشگاه محقق اردبیلی ره (اردبیل)
موضوع: Plasma dynamics,Thin films, Surfaces,Plasma etching,Plasma chemistry, Industrial applications
رده :
QC718
.
5
.
D9L54
2005
3. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده : / Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg.
موضوع : دینامیک پلاسما,لایه‌های نازک -- رویه‌ها,Plasma etching,Plasma chemistry -- Industrial applications
۲ نسخه از این کتاب در ۲ کتابخانه موجود است.
4. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده: / Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg
کتابخانه: كتابخانه مركزی و مركز اسناد دانشگاه مازندران (مازندران)
موضوع: Plasma dynamics,Thin films- Surfaces,Plasma etching,Plasma chemistry- Industrial applications
رده :
QC718
.
5
.
D9
,
L54
2005
5. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده: / Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg
کتابخانه: کتابخانه مرکزی، مرکز اسناد و تامین منابع علمی دانشگاه صنعتی سهند (آذربایجان شرقی)
موضوع: Plasma dynamics,Thin films- Surfaces,Plasma etching,Plasma chemistry- Industrial applications
رده :
QC718
.
5
.
D9L54
2005
6. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده: / Michael A. Lieberman and Allan J. Lichtenberg
کتابخانه: کتابخانه پرديس 2 دانشکده‌های فنی دانشگاه تهران (تهران)
موضوع: Plasma dynamics,Thin films ــ Surfaces.,Plasma etching ــ Surfaces.,Plasma chemistry ــ Industrial applications.
رده :
QC
718
.
5
.
D9L54
2005
